美國的單方再審程序面面觀

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作者：殷慎敏 北京品源知識產權代理有限公司

原標題：美國的單方再審程序面面觀

美國專利商標局的單方再審 （Ex Parte Reexamination）是指在專利權有效期內， 任何人包括第三方，專利權人或美國專利商標局均可以根據在先公開的文獻，向美國專利商標局提請單方再審的請求。自1981年美國單方再審程序啟動到今天，它依然是授權后無效程序的重要工具。本文總結出單方再審的八個重要方面，以方便讀者全面快速了解該程序。

1、單方再審的請求人

單方再審不限制請求人，可以是專利權人，也可以是第三方，或者美國專利商標局。第三方可以匿名提請單方再審。

2、單方再審的理由

啟動單方再審的前提是根據在先公開文獻發現了可專利性的實質新問題（substantial new question of patentability）。這里的在先公開文獻只限于專利文獻或印刷材料。在審查過程中沒有被引用過的新文獻，如果在技術啟示方面沒有被審查員考慮過，則可用來支持可專利性的實質新問題的提出；而在審查過程中已被考慮過的舊文獻，如果從新的角度加以引用，也可用來支持提出可專利性的實質新問題。

3、單方再審的審查部門

美國專利商標局審查單方再審的部門是中央復審單位 (Central Reexamination Unit)。單方再審由三名資深審查員組成的合議組執行處理。

4、單方再審的時間表

美國專利局要求單方再審在兩年內審結，目前的數據顯示平均審結時間是25.7月。

5、單方再審的請求

單方再審的請求需要包括如下內容：

● 指出存在可專利性的實質新問題的陳述

● 詳細解釋并證明所引用文獻與被請求審查的權利要求之間相關性

● 引用文獻的復印件

● 請求被審查專利的復印件

● 已將請求書復印件發給專利權人的證明

● 付費證明

6、單方再審啟動后的程序特點

● 第三方請求人無法繼續參與到后續的審查

● 單方再審程序一旦啟動，無法放棄和撤回該程序

● 請求繼續審查（RCE）程序不適用于單方再審

● 第三方請求人可以保留匿名狀態

● 專利權人對單方再審決定不服，可以向美國專利局申請復審

● 專利權人對復審決定不服，可以到聯邦巡回上訴法院提起訴訟

7、單方再審階段的官費

自2018年1月16日實施的美國專利商標局有關單方再審的最新官費見下表。值得注意的是這里的微實體只適用于專利權人提請的單方再審。

8、單方再審決定的數據統計

來源：IPRdaily中文網（iprdaily.cn）

作者：殷慎敏 北京品源知識產權代理有限公司

編輯：IPRdaily王穎          校對：IPRdaily縱橫君

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